产业图谱 · Industry Map
硅基半导体是数字经济的“心脏”与“大脑”，也是当前全球科技博弈的制高点。
硅基半导体是数字经济的“心脏”与“大脑”，也是当前全球科技博弈的制高点。在人工智能、智能汽车和万物互联的产业浪潮下，半导体产业链正经历从“终端需求拉动”向“底层技术突破驱动”的深度重构。
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Industry Chain
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Industry Map
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硅基半导体是数字经济的"心脏"与"大脑"，也是当前全球科技博弈的制高点。中国半导体产业自2018年中兴事件以来，已走过"被动应对→主动突围→局部领先"的七年征程。
2026年上半年，硅基半导体产业链最核心的矛盾仍然是**"设备国产替代"**——但形势已从"能不能替代"演进为"替代速度有多快"。北方华创和中微公司在刻蚀/薄膜沉积设备上的突破，保障了国内晶圆厂的持续扩产；上海微电子在浸没式DUV光刻机上的攻关进展，则是产业链"最后的拼图"。与此同时，先进封装（Chiplet/3D堆叠）正在成为后摩尔时代提升芯片性能的核心抓手——它让中国企业在无法获得最先进制程（<5nm）的情况下，通过"用成熟制程组合出先进性能"实现弯道超车。AI芯片（华为昇腾/寒武纪/海光信息）在美国出口管制下实现了"被迫替代→主动替代"的关键转变——昇腾910C在多个国产智算中心的大规模部署，证明了国产AI芯片的可用性。
本图谱清晰勾勒了半导体"上游材料与设备筑基、中游设计与制造铸魂、下游AI与终端应用兑现"的完整生态闭环。
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上游
半导体制造需要七大核心设备：光刻机（Lithography）、刻蚀机（Etch）、薄膜沉积（CVD/PVD/ALD）、离子注入（Ion Implanter）、清洗设备（Wet Clean）、CMP（化学机械抛光）、检测量测（Metrology/Inspection）。其中技术壁垒最高的两个环节是光刻机和刻蚀机——光刻机决定了"能画多细的线"（分辨率），刻蚀机决定了"能把线刻得多精准"（深宽比和均匀性）。
国产设备进展与差距量化：
| 设备类型 | 全球龙头 | 中国龙头 | 国产化率 | 最先进工艺节点 | 与全球龙头差距 |
|---|---|---|---|---|---|
| 光刻机 | ASML(荷兰)/Nikon/Canon | 上海微电子(SMEE) | <5% | 90nm(量产)/28nm(攻关中) | ~15-20年 |
| 刻蚀机（ICP/CCP） | Lam Research/TEL/AMAT | 中微公司/北方华创 | ~25% | 5nm(中微已进入台积电5nm产线) | ~2-3年 |
| 薄膜沉积（CVD/PVD/ALD） | AMAT/Lam/TEL | 北方华创/拓荆科技/中微 | ~20% | 14nm(PVD)/7nm(ALD在验证) | ~3-5年 |
| 离子注入 | AMAT/Axcelis | 中科信/凯世通 | ~10% | 28nm | ~5-8年 |
| 清洗设备 | SCREEN/TEL/Lam | 盛美上海/至纯科技 | ~30% | 14nm | ~2-3年 |
| CMP | AMAT/EBARA | 华海清科 | ~20% | 14nm | ~3-5年 |
| 检测量测 | KLA/AMAT/Hitachi | 中科飞测/上海精测 | ~15% | 28nm | ~5-8年 |
LAF™ 合规扫描
本赛道相关 A 股与 IPO 在审企业已纳入 LAF™ 五维合规分析体系扫描范围。穿透产业链，先看合规底色，再谈产业机会。
按赛道—行业映射归集可分析公司；均分与红旗率为 D1 财务维度预聚合，非正式五维综合评级。
上游
177家
中游
119家
下游
80家
合计 376 家 · 映射行业 6 · 赛道均分 74.1 · 映射 v1.1。一行业可挂多赛道；公司暂按东财行业整段归入，主营构成拆分后可细化到段。
Flagship Report
硅基半导体产业链是数字经济的核心与全球科技博弈的制高点。报告基于2026年产业生态节点，深度解构了从上游设备与材料、中游IC设计与制造到下游AI与终端应用的完整闭环。核心议题聚焦于“设备国产替代”这一最紧迫的攻坚战，指出刻蚀与薄膜沉积设备国产化率已提升至20%以上，但光刻机仍是“最后的拼图”。同时，先进封装（Chiplet/3D堆叠）成为后摩尔时代提升芯片性能的关键路径，而AI芯片在美国出口管制下实现了从“被迫替代”到“主动替代”的转变。报告结论认为，中国半导体产业已从被动应对进入全面突围期，商业可行性成为下一阶段的核心命题。
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